金属锗靶材 Ge靶材 磁控溅射
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更新日期：2023-11-03
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金属锗靶材 Ge靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度：99.99% 中文名 锗 水溶性 不溶于水 分子量 72.61 原子序数 32 熔 点 938.25℃ 沸 点 2830℃ 标签： 北京市磁控溅射 北京市磁控溅射厂家
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