硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料
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更新日期：2023-10-29
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硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度：99.5% 中文名 硅化铪 英文名 Hafnium silicide EINECS 235-640-1 分子式 HfSi2 分子量 242.62 稳定性 常温常压下稳定 标签： 硅化铪靶 HfSi 磁控溅射 硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 北京市硅化铪靶材靶材 北京市硅化铪靶材靶材厂家
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