高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
点击数：774
更新日期：2023-10-29
产品参数：
此产品没有输入参数信息。
信息详情：
高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度：99.99% 中文名 碲 分子量 127.6 原子序数 52 密 度 6.25×10kg/m 熔 点 452℃ 沸 点 1390℃ 标签： 碲靶材 Te靶材 碲靶材 Te靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家
北京市 北京市[碲靶材
Te靶材]
北京市高纯金属厂家
高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
北京市 北京市[碲靶材
Te靶材]
北京市高纯金属厂家高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
