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更新日期:2023-10-28
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高纯钴靶材厂家高纯钴靶材钴靶材99.95%磁控溅射靶材 北京众诚新材科技专业从事高纯金属材料生产加工,采用区域熔炼法,真空熔炼法,热等静压烧结,电解精炼法提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.9%-99.999%,产品品质高,使用效果稳定。
高纯单质金属溅射靶材(3N-5N):铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo等高纯单质金属溅射靶材。
多元合金靶靶材(3N-4N):镍钒合金靶Ni-V,镍铬合金靶Ni-Cr,钛铝合金靶Ti-Al,*合金靶Si-Al,铜铟合金靶Cu-In,铜镓合金靶Cu-Ga,铜铟镓合金靶Cu-In–Ga,铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se,锌铝合金靶Zn-Al,钨钛W-Ti,铁钴Fe-Co等高纯合金溅射靶材。
备注:众诚新材生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.99%),可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
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多元合金靶靶材(3N-4N):镍钒合金靶Ni-V,镍铬合金靶Ni-Cr,钛铝合金靶Ti-Al,*合金靶Si-Al,铜铟合金靶Cu-In,铜镓合金靶Cu-Ga,铜铟镓合金靶Cu-In–Ga,铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se,锌铝合金靶Zn-Al,钨钛W-Ti,铁钴Fe-Co等高纯合金溅射靶材。
备注:众诚新材生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.99%),可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
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