离子源清洗 NIE-3500（M）离子束清洗系统 那诺-马斯特

NIE-3500（M）离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。
所有核心组件均为。
NIE-3500（M）离子束清洗系统产品特点： 低成本 离子束：高达2KV/10mA 离子电流密度100-360uA/cm2 离子束直径：4",5",6" 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2) 极限真空5x10-7Torr 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵 14"不锈钢或铝质腔体 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500) 自动上下载片（NIE-3500） 基于LabView软件的PC计算机全自动控制 占地面积30"x30" 产品应用： 表面清洗 表面处理 离子铣 带活性气体的离子束刻蚀 光栅刻蚀 SiO2，Si和金属的深槽刻蚀 标签： 硅片清洗... 离子源清... Ion ... 离子束清... 晶圆清洗...   硅片清洗设备 离子源清洗 Ion Beam 离子束清洗系统 晶圆清洗设备 晶圆清洗机   上海市离子束清洗   上海市离子束清洗厂家
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