高纯金属碳靶材 C靶材 磁控溅射靶材
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更新日期：2023-06-28
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高纯金属碳靶材 C靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度：99.99% 中文名 碳 分子量 12.01 化学物质登录号 7440-44-0 EINECS登录号 231-153-3 熔 点 3500C 沸 点 4827℃ 标签： C靶材 碳靶材 C靶材 碳靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家
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